Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Technostress and Multiple Organizational Social Media: Investigating Negative and Positive Stressors and Strains from a Person-Technology-Fit Perspective
Högskolan Väst, Institutionen för ekonomi och it, Avdelningen för mäklarekonomi och samhälle. (LINA)ORCID-id: 0000-0002-1435-1632
2021 (Engelska)Ingår i: Proceedings of the 54th Hawaii International Conference on System Sciences, 2021, s. 2780-2789Konferensbidrag, Publicerat paper (Övrigt vetenskapligt)
Abstract [en]

Multiple organizational social media (MOSM) foster new ways of communication, interaction and new encounters for organizations that can cause stress. Earlier research on social media and technostress have focused on negative stressors, hence there is a lack of studies focusing on both positive and negative stressors deriving from social media. In this study, both negative and positive stressors and strains deriving from using MOSM are studied in an international hotel chain with employees in eight European countries over a period of seven years. The results indicate that techno stressors such as work overload, work-life conflict, and changing algorithms creates negative stressors. However, positive stressors such as the ability to create new ways of providing service was also found. The study makes a theoretical contribution to technostress research in the Information Systems research field by uncovering both positive and negative stressors and strains created over time as well as suggests a development of the Person-Technology fit model.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2021. s. 2780-2789
Nyckelord [en]
Digital and Social Media in Enterprise, multuple organizational social media, techno-distress, techno-eustress, technostress
Nationell ämneskategori
Systemvetenskap, informationssystem och informatik med samhällsvetenskaplig inriktning
Forskningsämne
Arbetsintegrerat lärande
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:hv:diva-18071DOI: 10.24251/HICSS.2021.339ISBN: 978-0-9981331-4-0 (digital)OAI: oai:DiVA.org:hv-18071DiVA, id: diva2:1629970
Konferens
54th Hawaii International Conference on System Sciences
Tillgänglig från: 2022-01-19 Skapad: 2022-01-19 Senast uppdaterad: 2022-01-19

Open Access i DiVA

fulltext(918 kB)81 nedladdningar
Filinformation
Filnamn FULLTEXT01.pdfFilstorlek 918 kBChecksumma SHA-512
98b84d049444ea1c770c0a5381f32b3a5df4c9c69be36065a273872b9d8eba55c6d83dab08c9b878195ffa3c0d9ccd9f98e4db2e5ad05c52d1c3abda0267b85a
Typ fulltextMimetyp application/pdf

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Person

Högberg, Karin

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Högberg, Karin
Av organisationen
Avdelningen för mäklarekonomi och samhälle
Systemvetenskap, informationssystem och informatik med samhällsvetenskaplig inriktning

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar
Totalt: 81 nedladdningar
Antalet nedladdningar är summan av nedladdningar för alla fulltexter. Det kan inkludera t.ex tidigare versioner som nu inte längre är tillgängliga.

doi
isbn
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
isbn
urn-nbn
Totalt: 231 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf